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六、污染物排放總量控制分析
擬建工程污染物排放產(chǎn)生量、治理削減量和最終排放量核算見表4。
表4擬建工程污染物排放產(chǎn)生量、治理削減量和最終排放量
項目
|
污染物名稱
|
產(chǎn)生量/ (t/a)
|
治理削減量/ (t/a)
|
最終排放量/ (t/a)
|
廢氣
|
氟化物
|
17.115
|
16.26
|
0.855
|
|
排水量
|
131.98 萬m3/a
|
|
|
廢水
|
CODrr
|
194.99
|
6.54
|
188.16
|
|
NH3—N
|
82.83
|
77.06
|
5.77
|
固體廢物
|
固體廢物
|
6 064
|
6 064
|
0
|
由表4可見,擬建工程投產(chǎn)后,最終排入環(huán)境的廢氣主要污染物氟化物為0.855 t/a; 本工程排入環(huán)境的廢水為131.98萬m3/a,CODcj_放量為188.16 t/a,NH3—N排放量 為5.77 t/a;本工程固體廢物最終排放總量為0。
本項目位于北京經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū),目前開發(fā)區(qū)內無污染物排放控制的下達指標, 因此本項目也無明確的污染物排放的控制指標。2002年底開發(fā)區(qū)污水排放量為1.69 萬m3/d, CODa的質量濃度為300?400 mg/L,按預測本項目最終COD&的排放量 188.16 t/a,約占 2002 年全開發(fā)區(qū)(^^^的 8.84%; NH3—N 排放量為 5.77 t/a。
建議在滿足達標排放的前提下,以上污染物排放量作為本項目污染物總量控制指標建議值,報請環(huán)保主管部門審批,并提出實施總量控制指標的具體措施和計劃。
七、清潔生產(chǎn)及節(jié)水分析
目前我國集成電路生產(chǎn)己具備了一定的規(guī)模和基礎,初步形成了從產(chǎn)品設計、 前工序到后封裝的體系輪廓。目前國內主要有7個芯片制造骨干企業(yè),國內芯片生產(chǎn)企業(yè)總的講規(guī)模都不算太大,且產(chǎn)品工藝與國際先進水平有一定的距離。本項目 擬建設8英寸(20.32 cm) 0.35?0.18 pm,預計量產(chǎn)時月投片30 000片;12英寸 (30.48 cm)先進制程線,0.13?0.09 _,月投產(chǎn)3 000片。因此,無論是產(chǎn)品工藝 還是生產(chǎn)規(guī)模都將成為國內最先進的芯片生產(chǎn)企業(yè)。
擬建項目生產(chǎn)技術路線和生產(chǎn)工藝是在國際上較為先進的,技術水平上符合集成電路加工制作清潔生產(chǎn)的要求。本項目努力提高資源和能源的綜合利用能力,水 資源綜合利用取得一定的效果,部分廢水回用,廢物減量化,“三廢”治理措施合理可行。因此,基本上符合清潔生產(chǎn)的要求,但水資源綜合利用仍有潛力可挖。
表5 “三廢”排放情況比較
序號
|
污染物名稱
|
處理后排放量/ (g/片) (北京廠)
|
處理后排放量/ (g/片) (上海廠)
|
減少量/ (g/片)
|
|
|
1.1
|
氟化物
|
1.94
|
2.10
|
0.16
|
|
1.2
|
HC1
|
0.76
|
1.31
|
0.55
|
|
1.3
|
硫酸霧
|
3.57
|
2.58
|
-0.99
|
廢
/=^
|
1.4
|
ci2 .
|
0.317
|
1.07
|
0.753
|
1.5
|
HN03
|
0.327
|
0.48
|
0.153
|
|
|
1.6
|
SiH4
|
0.102
|
0.10
|
-0.002
|
|
1.7
|
h3po4
|
0.143
|
0.12
|
-0.023
|
|
1.8
|
ph3
|
5.1X10—4
|
0.012
|
0.0115
|
|
1.9
|
AsH3
|
1.53X10"3
|
0.024
|
0.0225
|
|
2.0
|
VOC
|
7.44
|
3.81
|
-3.63
|
|
2.1
|
CODc,
|
426.7
|
26.7
|
-400
|
廢
|
2.2
|
NH3—N
|
13.08
|
17.5
|
4.42
|
2.3
|
SS
|
134.49
|
31.23
|
-103.26
|
|
|
2.4
|
F 一
|
11.59
|
11.98
|
0.39
|
|
2.5
|
PH
|
6?9
|
6?9
|
|
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(責任編輯:中大編輯)
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